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スパッタリングターゲット製品一覧

スパッタリングターゲット製品一覧

1.光学膜用ターゲット

用途

  1. 自動車、住宅用表面処理ガラスの低放射(Low-Emissivity)膜
  2. ディスプレイ用フィルム、及びガラスの反射防止膜
  3. タッチパネル等の光学調整膜(インデックスマッチング膜)
  4. 情報エレクトロニクス用ガラス(CD、DVDなどのミラー)の光学多層膜
材質 製品名 ターゲット形状 ターゲット 膜(酸化膜の場合)
平板 円筒 DCスパッタ 特徴 耐アルカリ性 耐酸性 耐擦傷性 その他
Si系 SC   高速成膜(>結晶Si)
高強度、高熱伝導率
n=1.46
アモルファス質 
溶射Si 安定放電 n=1.46
アモルファス質 
Nb系 NBO
溶射
高密度
高速成膜(>Nb)
n=2.3
アモルファス質
Ti系 TXO
溶射
高速成膜(>Ti) n=2.45
アモルファス質

特徴

SC

  • 高強度、高熱伝導率、均一組織のターゲットのため、長期安定放電を実現します。
  • 結晶Siから成膜する場合に比べ20%以上の高速成膜を実現します。
  • 酸化反応性スパッタにより、アモルファス質のSiO2膜が得られます。
  • 酸化反応性スパッタで得られた膜は、無色で高透過の膜です。

NBO

  • 金属Nbから成膜する場合より3倍以上の成膜速度を実現します。
  • 酸化反応性スパッタにより、アモルファス質のNb2O5膜が得られます。
  • 酸化反応性スパッタで得られた膜は、無色で高透過の膜です。

TXO

  • 金属Tiから成膜する場合に比べ7倍以上の成膜速度を実現します。
  • 酸化反応性スパッタにより、アモルファス質のTiO2膜が得られます。
  • 酸化反応性スパッタで得られた膜は、無色で高透過の膜です。

2.高耐久保護膜用ターゲット・中間屈折率膜用ターゲット

用途

  1. 自動車、住宅用表面処理ガラス(着色ガラス、熱線反射ガラスなど)の保護膜
  2. ディスプレイ用フィルム(タッチパネルなど)の反射防止膜
  3. バーコードリーダーや複写機用天板ガラスの耐擦傷保護膜
  4. 耐アルカリ性、耐擦傷性を必要とするあらゆる皮膜の保護膜
材質 製品名 ターゲット形状 ターゲット 膜(酸化膜の場合)
平板 円筒 DCスパッタ 特徴 耐アルカリ性 耐酸性 耐擦傷性 その他
Si系 SX   高密度
低アーキング性
n=1.7
アモルファス質
ST
開発中
高密度
高速成膜(>SX)
n=1.7~2.0
アモルファス質

特徴

SX

  • 酸化反応性スパッタによりアモルファス膜が得られ、平坦で低摩擦性を有します。
  • 酸化反応性スパッタで得られた膜は、無色で高透過の膜です。
  • 酸化反応性スパッタで得られる膜は、耐擦傷性、耐薬品性に優れています。

ST

  • SXより高速の成膜ができます。
  • 酸化反応性スパッタによりアモルファス膜が得られ、平坦で低摩擦性を有します。
  • 酸化反応性スパッタで得られた膜は、無色で高透過の膜です。
  • 酸化反応性スパッタで得られる膜は、耐擦傷性、耐薬品性に優れています。
  • 酸化反応性スパッタで得られる膜は、流滴性があります。
  • 得られる膜の屈折率はターゲット組成により1.7~2.0まで変えられます。

3.Low-E用誘電体膜用ターゲット・中間屈折率膜用ターゲット

用途

  1. 建材向けLow-E(低放射)膜用誘電体膜
  2. 反射防止膜など光学膜用中間屈折率膜
材料系 製品名 ターゲット形状 ターゲット 膜質
平板 円筒 DC成膜 特徴
Zn系 SZ 合金ターゲット
Ar成膜
n=2.0
アモルファス質
AZ
開発中
合金ターゲット
Ar成膜
n=2.0
アモルファス質

特徴

  1. 円筒SZターゲットは、当社独自製法(RP法:特許出願中)によりバッキングチューブとの高い接着力を実現しました。そのため、従来の溶射法ターゲットに比べて、ハイパワースパッタによる高速成膜が可能です。
  2. 全長3m以上の円筒長尺ターゲットの製造が可能です。

4.透明導電膜用ターゲット

用途

  1. 環境、エネルギー用ガラス(太陽電池など)の透明電極
  2. ディスプレイ用ガラスの透明電極
  3. 自動車、住宅用ガラス(熱線反射ガラス、電気自動車用面発熱体など)の透明導電膜
  4. 繊維、フィルムなどへの帯電防止コート膜
材料系 製品名 ターゲット形状 ターゲット 膜質
平板 円筒 DC成膜 特徴 導電性 耐薬品性 他特徴
Zn系 GZO   高密度焼結体
Ar成膜
× n=1.9
低温結晶性膜
AZO
開発中
高密度焼結体
Ar成膜
× n=1.9
低温結晶性膜

特徴

  1. 相対密度90%以上の高密度ZnO系ターゲットです。
  2. ITOに比べてノジュールが発生しにくく、安定放電できます。
  3. 純アルゴン雰囲気での成膜が可能です。
  4. 室温成膜でも結晶質の膜ができます。

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